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產(chǎn)品分類(lèi)
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產(chǎn)品介紹
XENOS XeMove載物臺使用先進(jìn)的激光測量系統和超聲波壓電驅動(dòng)技術(shù)，結合我們的光刻系統（測量分辨率為10nm），可獲得優(yōu)于100nm的縫合和覆蓋精度。
XeMove：電子束光刻平臺
緊湊的設計允許用作子階段或更換階段，只需要電氣室饋通。所有組件都是高真空兼容且完全非鐵磁的。緊湊的設計包括激光測量系統和壓電驅動(dòng)部件。軸上測量將偏航誤差的影響降至更低。行程范圍從55毫米到120毫米不等。
性能特點(diǎn)
- 集成到現有系統中不需要復雜且昂貴的腔室修改。
- 測量系統不需要激光視口，載物臺電機不需要機械饋通，所有有源部件都放置在真空室內，并通過(guò)標準電氣饋通進(jìn)行電子控制。
- 對于某些腔室設計（例如JEOL JSM-7xxx），載物臺可以通過(guò)負載鎖插入，并通過(guò)腔室內的特殊電ZIF觸點(diǎn)連接。
- 當平臺停止時(shí)，驅動(dòng)電機斷電，位置被機械鎖定，從而將總功耗降至更低，防止加熱和相關(guān)漂移。
技術(shù)參數
產(chǎn)地：美國
類(lèi)型：電子束光刻平臺
測量分辨率：10nm
行程范圍：55mm到120mm
縫合精度：優(yōu)于100nm
覆蓋精度：優(yōu)于100nm
激光視口：不需要
機械饋通：不需要
觸點(diǎn)連接：ZIF
兼容：高真空
組件：非鐵磁
部件驅動(dòng)：壓電
產(chǎn)品參數
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