無損成像將時間分辨研究帶入了納米長度尺度
獨(dú)特的地形表面成像能力(生物,半導(dǎo)體,量子)
一根或多根帶有根據(jù)您的要求配置的終端站的光束線
自組裝材料中納米級有序衍射
用于評估機(jī)械和薄膜特性的結(jié)構(gòu)泵探頭,以了解彈性響應(yīng),熱傳遞和聲子模式
磁性系統(tǒng)的高分辨率,革命性的測量對不同的磁性層高度敏感
KMLabs QM 量子顯微鏡的光子成像解決方案是一個完全集成的商業(yè)化平臺,可實(shí)現(xiàn)EUV范圍內(nèi)的超快速光譜和納米級的高對比度,近地表到地下成像。它可以對成分和結(jié)構(gòu)進(jìn)行基于實(shí)驗(yàn)室的2D高對比度成像,研究圖案化薄膜的機(jī)械性能,深入了解材料性能,以及自旋電子,ALD,2D,低密度輕質(zhì),能源,空間和光伏材料的功能表征。
通過將飛秒激光器的時間敏感性與EUV顯微鏡和衍射的空間分辨率相結(jié)合,QM使得一系列技術(shù)可針對研究和工業(yè)中的重要挑戰(zhàn)進(jìn)行調(diào)整。例如,對于電池,鋰邊緣附近的EUV吸收提供了微觀和光譜上豐富的區(qū)域,以了解鋰鍵合。對于半導(dǎo)體,QM提供了獨(dú)特的對鍵合敏感的掩埋和表面納米形貌的關(guān)鍵細(xì)節(jié)。QM 量子顯微鏡完全可配置,包括激光源(EUV和/或VUV),放大器,根據(jù)用戶實(shí)驗(yàn)量身定制的光束線以及可有效覆蓋納米/量子材料的顯微鏡/光譜學(xué)領(lǐng)域的成像或其他分析工作站。
集成的高性能超快EUV激光源
高分辨率干涉測量表面和亞表面成像
x/y空間分辨率小于20 nm
具有可配置終端站的多用途束線
泵浦探頭(XUV泵浦/ IR探頭)設(shè)計
可擴(kuò)展至VUV(60-150 nm或8.3至20.7 eV)